XPS

In diesem Versuch werden verschiedene Festkörperoberflächen mit der Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) untersucht. XPS, die wichtigste spektroskopische Methode zur chemischen Analyse von Oberflächen, erreicht eine Nachweis-Empfindlichkeit von einigen Prozent einer einzelnen Atomlage. Der Versuch bietet darüber hinaus einen Einblick in die Ultrahochvakuum-Technik, z.B. in die Restgasanalyse per Quadrupolmassenspektrometrie und in die Präparation von Oberflächen durch Edelgasionen-Beschuss, sogenanntes Sputtern.